ALD、CVD、PLD、MBE臭氧解决方案
按工艺浓度、流量与气源条件匹配臭氧源，从实验室小试到产线配套。
20 年臭氧应用经验
长期服务半导体、光伏、水处理与实验室现场，熟悉运行与维护要求。
众多半导体企业使用经验
设备已在半导体企业、高校与科研院所的薄膜沉积与晶片清洗现场长期运行。
加拿大 Absolute 官方授权商
进口臭氧设备与检测仪的维修、校准与备件支持，覆盖 6 类主流品牌。
某公司订购同林Apex 02高浓度臭氧发生器，臭氧浓度超350mg/LApex 02高浓度臭氧发生器，臭氧浓度0...
某研究所PLD配套风冷式高浓度臭氧源案例802N臭氧发生器+3S-J5000臭氧检测仪某研究所为开展薄膜沉积材料...
某气氛退火设备制造企业臭氧发生器配套某专业气氛退火设备制造企业，为优化其气氛退火设备的核心性能，提升氧化退火工艺...
M1000高纯度臭氧源测试现场M1000 高精度臭氧发生器，采用进口双层石英电晕放电核心，不析出金属离子，配合1...
为某院ALD设备提供高浓度臭氧源测试现场在近期完成的某研究院原子层沉积（ALD）设备配套项目中，我们成功实施了高...
某PLD设备商高浓度臭氧发生器测试某知名PLD设备制造商为提升其设备工艺性能，向北京同林采购Atlas P30高...
半导体工艺为什么需要臭氧源？臭氧在氧化工艺中的作用在半导体薄膜沉积、表面处理和氧化工艺中，氧气、水蒸气、臭氧等都可以作为氧化性气体参与反应。...
有的设备要求较高的臭氧发生器出口浓度，有的则更关注气体流量；有的系统对供气压力要求严格，还有一些设备需要臭氧发生器、臭氧检测仪和尾气处理装置...
在臭氧辅助原子层沉积（ALD）工艺中，臭氧通常作为强氧化剂参与薄膜表面反应，可用于Al₂O₃、HfO₂、SnO₂等多种氧化物薄膜的制备。对于...
设备与服务已在半导体企业、高校与科研院所的工艺现场长期运行，覆盖薄膜沉积、晶片清洗、超纯水与材料研究等方向。
提供浓度、流量、材质与接口需求，我们的工程师会在 1 个工作日内给出选型建议与报价。
