B20高浓度臭氧发生检测系统

概述:3S-B20臭氧发生器系统采用模块化臭氧生成技术,集成臭氧在线检测仪,电子质量流量计,提供精确的高浓度臭氧。

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产品简介

产品简介

专业面向半导体工艺的高纯臭氧氧化源

ALD（Atomic Layer Deposition，原子层沉积）技术对氧化剂的纯度、浓度稳定性以及供应重复性具有较高要求。臭氧（O₃）具有较强氧化能力，可作为ALD工艺中的氧化源，用于氧化物薄膜沉积及表面氧化处理。

同林ALD高纯臭氧发生器采用高纯氧气作为原料，通过专用臭氧发生模块产生稳定臭氧输出，并结合臭氧浓度控制、检测及尾气处理模块，为半导体材料研发和薄膜制备提供完整臭氧供应方案。

ALD原子层沉积设备

PEALD设备

CVD薄膜制备系统

半导体材料研究平台

氧化物薄膜实验

产品特点

面向半导体工艺的专业臭氧发生系统

面向半导体工艺设计

不同于普通工业臭氧发生器，ALD工艺更加关注臭氧浓度稳定性、输出重复性、小流量控制能力、系统兼容性与长时间运行可靠性。

同林半导体臭氧系统针对科研及工艺开发需求设计，可满足实验室及设备集成应用。

臭氧浓度稳定可调

根据不同薄膜材料及工艺需求，可配置不同臭氧浓度输出。支持低浓度臭氧供应、高浓度臭氧氧化及连续稳定输出。

臭氧浓度可通过发生功率调节、氧气流量调节及外部控制系统进行优化。

支持设备集成控制

可根据ALD设备自动化需求提供RS485通讯、Modbus协议、4-20mA控制、PLC联动控制。

方便与ALD控制系统、MFC流量系统、真空系统进行集成。

臭氧兼容气路设计

臭氧具有强氧化性，设备气路采用耐臭氧材料，降低臭氧传输过程中的材料腐蚀和污染风险。

可选材料：PTFE、PFA、316L不锈钢，满足不同工艺场景需求。

选型指南

不同应用对于臭氧参数要求不同

应用需求	设备选择建议
实验室ALD研发	小流量、高稳定臭氧系统
氧化物薄膜制备	浓度可调型臭氧发生器
设备配套	支持通讯控制型号
长期工艺运行	带臭氧检测反馈系统

应用领域

广泛应用于半导体及材料研发领域

ALD

ALD氧化物薄膜沉积

臭氧可作为氧化剂应用于多种氧化物薄膜制备：

■ Al₂O₃

■ HfO₂

■ TiO₂

■ ZnO

应用优势

提高氧化效率 / 改善薄膜质量 / 降低有机残留

SUR

半导体表面氧化处理

臭氧氧化处理可应用于半导体材料表面改性与清洁处理，提升材料表面性能。

应用场景

● 金属表面氧化

● 材料表面改性

● 有机污染去除

R&D

新材料研发实验

适用于高校及科研机构的新材料探索与功能氧化物研究，提供灵活可调的臭氧供应方案。

适用方向

◆ 纳米材料制备

◆ 功能氧化物研究

◆ 高介电材料开发

系统组成方案

完整ALD臭氧供应系统四大模块

高纯臭氧发生器

提供稳定臭氧氧化源

臭氧浓度检测系统

实时监测臭氧浓度与输出稳定性

气体流量控制模块

MFC精确流量控制与工艺重复运行

臭氧尾气处理系统

处理残余臭氧，保护实验环境

系统流程示意

高纯氧气

↓

臭氧发生器

↓

臭氧检测

↓

MFC流量控制

↓

ALD反应腔

↓

尾气破坏器

同林ALD臭氧解决方案

针对不同客户需求提供定制化方案

SOLUTION 01

实验室ALD臭氧方案

适用对象

高校实验室 / 科研机构 / 材料研发平台

方案配置

■ 臭氧发生器

■ 臭氧检测仪

■ 流量控制

■ 尾气处理

SOLUTION 02

ALD设备配套方案

适用对象

ALD设备厂家 / 半导体设备研发企业

支持服务

● 臭氧源集成

● 自动控制开发

● 工艺参数优化

SOLUTION 03

定制化开发方案

适用对象

有特殊工艺需求的企业及研究机构

定制内容

◆ 特殊浓度/流量定制

◆ 专用接口开发

◆ 系统级集成方案

常见问题

关于ALD臭氧系统的常见疑问解答

ALD为什么使用臭氧作为氧化剂？

臭氧具有较高氧化活性，可以在较低温度条件下促进前驱体氧化，因此被用于部分氧化物薄膜制备工艺。

ALD臭氧浓度一般是多少？

实际需求取决于薄膜材料、前驱体类型、沉积温度和工艺参数。设备出口臭氧浓度和ALD腔体实际浓度存在差异，需要结合系统条件优化。

臭氧发生器可以直接连接ALD设备吗？

可以。需要根据ALD设备接口、气体流量、压力条件、控制方式进行匹配设计。

为什么需要臭氧检测？

臭氧浓度直接影响氧化效果和实验重复性。配置臭氧检测系统，可以实时确认臭氧输出状态。

臭氧系统需要尾气处理吗？

需要。未反应臭氧需要经过尾气处理后排放，以保证实验安全。

技术参数

技术参数
臭氧产量：15-200 g/hr（取决于配置）
工作压力：20-80psi（取决于配置）
臭氧浓度：30g - 0.5L/min@300mg/L高达 20 wt%
冷却：风冷
检测系统，过程臭氧检测（0-400mg/L）
气源：氧气
气体流速：0.1-20SLM（取决于配置）
工作温度0-40℃
控制界面：触屏操作，4-20mA远程控制
重量：50kg
电源：220V 50/60HZ
功率：380W
接头：1/4 VCR接头