半导体科研用高浓度臭氧水机
半导体科研级高浓度臭氧水机专为半导体行业应用而开发设计，采用高浓度、超纯净臭氧生成与混合控制技术，选用高品质、超纯耐臭氧材料，实现为半导体行业应用提供超洁净、高浓度臭氧水。
参数
臭氧水流量：0.5-100L/min
臭氧水浓度：5-100ppm；
臭氧水压力：15-50psi
氧气流量：1-20SLM
冷却水流量：0.5-15L/min
冷却水温度：15-25℃
电源：220V
特点
● 溶解臭氧水浓度：5-100ppm；
● 在不同流量下保持恒定的臭氧浓度和操作压力；
● 溶解氧O3水监测仪集成;
● 超净半导体工艺；
● 闭合回路DIO3浓度控制系统；
● 气液分离装置集成，无气泡臭氧水；
● 高效臭氧接触器;
● 半导体 S2 和 CE 认证;
● 应用：清洁、表面处理、蚀刻
臭氧发生器覆盖半导体级高浓度机型，含 B20 高浓度臭氧发生检测系统、ALD 用液态超纯臭氧发生器、高浓度板式臭氧发生器与 Apex H30、EXT-10 等型号，纯度与浓度可按工艺要求配置。
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臭氧气体分析仪采用紫外吸收法测量气相臭氧浓度，覆盖国产高浓度紫外机型、德国 BMT 965ST 高浓度臭氧分析仪与 API Model 465H 等，可在线连续监测并输出信号。
查看分类臭氧水发生器用于制备高浓度溶解臭氧水，适用于半导体晶圆清洗、科研实验与表面处理场景，出水浓度可按工艺要求标定并可配套在线溶解臭氧分析仪。
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溶解臭氧分析仪用于水中臭氧浓度的在线连续测量，含 EL-700A/E 型与半导体用高浓度臭氧水浓度检测仪（紫外法），适用于臭氧水制备与清洗工艺的过程监控。
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