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半导体用高浓度高流量臭氧发生器投入使用

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半导体用高浓度高流量臭氧发生器投入使用

2023-12-21 公司新闻 次浏览

半导体用高浓度高流量臭氧发生器投入使用(图1)

3S-B20高浓度臭氧发生器,浓度高达 20 wt% (300g/m3),流量范围 0.1 至 20 slm,业界风冷高浓度臭氧发生器,控制包括臭氧浓度控制,集成过程臭氧检测,质量流量控制,压力控制,紧急关停等,确保在工艺中稳定运行。

技术参数

臭氧产量:15-200 g/hr(取决于配置)

工作压力:20-80psi(取决于配置)

臭氧浓度:0.5L/min@300mg/L高达 20 wt%

冷却:风冷

检测系统,过程臭氧检测(0-300mg/L)

气源:氧气

气体流速:0.1-20SLM(取决于配置)

工作温度0-40℃

控制界面:触屏操作,4-20mA远程控制

重量:50kg

电源:220V 50/60HZ

功率:380W

接头:1/4 VCR接头


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