某半导体企业风冷臭氧发生检测系统

该系统目前已成功应用于某半导体企业，满足其对臭氧浓度高于200mg/L的严苛要求。

该臭氧发生系统可广泛应用于原子层沉积（ALD）、分子束外延（MBE）、脉冲激光沉积（PLD）等多种高端工艺领域。系统集成了高浓度风冷式臭氧发生器、紫外吸收式臭氧检测仪、电子流量计、精密压力控制单元、多路信号输入接口，并标配1/4英寸卡套或VCR接头，兼容性强且密封性能优异。