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3S-T10（10g/h） ALD专用臭氧发生器，目前被广泛应用于ALD、PLD、MBE、半导体、科研等行业。臭氧产量10g/h，臭氧浓度可达120mg/L。进出口接头为1/4，可定制VCR接头。

3S-M3半导体用臭氧发生器臭氧浓度100mg/L，适合ald等臭氧浓度测试使用。设备采用第八代HYE智能电晕放电臭氧发生技术，浓度高，耐高压耐潮湿，抗腐蚀性强。产品可以在不同环境条件下稳定工作。

半导体科研级高浓度臭氧水机专为半导体行业应用而开发设计，采用高浓度、超纯净臭氧生成与混合控制技术，臭氧浓度可达100mg/L。

产品用途：通过催化分解将臭氧（O₃）转化为氧气（O₂），将臭氧浓度降至安全标准以下，适用于工业臭氧尾气处理。

水中臭氧消解器采用UVC紫外光照射的方式将水中溶解的臭氧转化为氧气。该臭氧水消解器可根据紫外灯数量定制，每根紫外灯可单独控制，臭氧浓度可调。

臭氧分析仪BMT 965 ST拥有数十年的臭氧光度计及其工业应用经验。应用于监测臭氧发生器输出、过程后残余臭氧的监测、饮用水处理、废水处理、工业臭氧处理。 半导体臭氧工艺

陶瓷板是板式臭氧发生器重要的放电部分，该陶瓷片匹配美国MKS臭氧发生器AX8415 AX8410 AX8407等型号。

3S-W 系列臭氧消除净化器主要用途是光刻车间臭氧消除、臭氧尾气分解等。工作原理：臭氧气体和潮湿的空气被离心风机负压吸入反应室，通过温控器调节温度，臭氧气体先进行预热，再进入电加热室进行加热分解，随后从反应室排出，还原为空气。