MKS提供各种臭氧发生器和模块化输送系统,可产生超纯,可靠的臭氧气体。在清洁的半导体环境中,臭氧与各种前体气体发生反应,产生Al2O3,ZrO2,HfO2和La2O3金属氧化物,以实现薄膜沉积工艺,如原子层沉积(ALD)和蚀刻(ALE)。MKS 的发生器使用 6 级气体,能够产生更高的薄膜密度,从而提高产品产量。光伏和显示器制造利用半导体更佳实践,利用臭氧创造增强的薄膜屏障,提高产品性能和可靠性。
联系我们
第一时间了解我们的新产品发布和最新的资讯文章。您有什么问题或要求吗?
点击下面,我们很乐意提供帮助。 联系我们