MKS提供各种臭氧发生器和模块化输送系统，可产生超纯，可靠的臭氧气体。在清洁的半导体环境中，臭氧与各种前体气体发生反应，产生Al2O3，ZrO2，HfO2和La2O3金属氧化物，以实现薄膜沉积工艺，如原子层沉积（ALD）和蚀刻（ALE）。MKS 的发生器使用 6 级气体，能够产生更高的薄膜密度，从而提高产品产量。光伏和显示器制造利用半导体更佳实践，利用臭氧创造增强的薄膜屏障，提高产品性能和可靠性。