北京某半导体企业用于ALD
臭氧在ALD工艺中发挥着不可替代的作用，其强氧化能力、低温反应特性和精确控制能力，使其成为生成高质量氧化物薄膜的理想选择。在使用过程中，必须严格控制臭氧的浓度和操作安全，以确保工艺的成功和人员的安全。
通过了解和应用臭氧在ALD中的关键作用和注意事项，科研人员和工程师可以更好地优化薄膜沉积过程，提高半导体和微电子器件的性能和可靠性。
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