江苏某企业臭氧用于晶片清洁
臭氧在晶片清洁中有着广泛的应用,其主要作用是通过氧化作用去除晶片表面的有机污染物和微生物,从而达到清洁和消毒的效果。
ATLAS H30高浓度臭氧发生器(16%wt)
B20高浓度臭氧发生检测系统
机架式高浓度板式臭氧发生器
3S-A5半导体用臭氧发生器
高浓度紫外臭氧分析仪
臭氧水浓度检测仪(紫外法)
高浓度臭氧破坏器
北京某半导体企业臭氧用于ALD
中科院某所用于氧化物生长研究
上海某半导体公司用于原子层沉积
江苏某半导体公司用于清洗硅片
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