江苏某企业臭氧用于晶片清洁
臭氧在晶片清洁中有着广泛的应用,其主要作用是通过氧化作用去除晶片表面的有机污染物和微生物,从而达到清洁和消毒的效果。
ATLAS H30高浓度臭氧发生器(16%wt)
高浓度板式臭氧发生器(MBE、半导体、科研用)
M10半导体PLD用臭氧发生器
NANO15 ALD用臭氧发生器
A10(10g/h) ALD专用臭氧发生器
EXT-10高纯净臭氧发生器 (无金属污染及析出)
ALD用液化超纯臭氧发生器(日本meiden)
某科学院臭氧发生器用于PLD
某科学院用于原子层沉积(ALD)领域
高浓度臭氧用于增强分子束外延(MBE)
某高校高量程臭氧水检测仪现场
某ALD企业臭氧设备调试现场
联系我们
您有什么问题或要求吗?
首页
产品
新闻
电话