中科院某所用于氧化物生长研究
臭氧在氧化物生长研究中发挥了重要作用,其作为强氧化剂的特性使其在原子层沉积、化学气相沉积以及表面改性等方面表现出色。通过优化臭氧的使用,可以显著提升氧化物薄膜的质量和性能。尽管臭氧的使用有其挑战,但通过严格的安全措施和环境管理,可以充分发挥其在科学研究和工业应用中的优势
ATLAS H30高浓度臭氧发生器(16%wt)
B20高浓度臭氧发生检测系统
机架式高浓度板式臭氧发生器
3S-A5半导体用臭氧发生器
高浓度紫外臭氧分析仪
臭氧水浓度检测仪(紫外法)
高浓度臭氧破坏器
北京某半导体企业臭氧用于ALD
江苏某企业臭氧用于晶片清洁
上海某半导体公司用于原子层沉积
江苏某半导体公司用于清洗硅片
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