上海某半导体公司用于原子层沉积
臭氧在原子层沉积(ALD)中的应用能够显著提高薄膜的质量和性能,其作为氧化剂的作用在许多高科技领域中展现出巨大的潜力。通过优化沉积工艺、改善薄膜特性,臭氧为ALD技术的发展提供了重要支持。使用臭氧时,需严格控制操作环境和安全措施,确保其有效性与安全性。
ATLAS H30高浓度臭氧发生器(16%wt)
B20高浓度臭氧发生检测系统
机架式高浓度板式臭氧发生器
3S-A5半导体用臭氧发生器
高浓度紫外臭氧分析仪
臭氧水浓度检测仪(紫外法)
高浓度臭氧破坏器
北京某半导体企业臭氧用于ALD
江苏某企业臭氧用于晶片清洁
中科院某所用于氧化物生长研究
江苏某半导体公司用于清洗硅片
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