上海某半导体公司用于原子层沉积
臭氧在原子层沉积（ALD）中的应用能够显著提高薄膜的质量和性能，其作为氧化剂的作用在许多高科技领域中展现出巨大的潜力。通过优化沉积工艺、改善薄膜特性，臭氧为ALD技术的发展提供了重要支持。使用臭氧时，需严格控制操作环境和安全措施，确保其有效性与安全性。
联系我们
第一时间了解我们的新产品发布和最新的资讯文章。 北京同林科技有限公司是一家是提供高纯高浓度臭氧发生器系统服务商，目前产品包括半导体用高浓度臭氧发生器、臭氧气体分析仪、溶解臭氧分析仪、臭氧水机、半导体用管道和接头等。 已经应用于众多半导体企... 您有什么问题或要求吗？
点击下面，我们很乐意提供帮助。 联系我们
