江苏某半导体公司用于清洗硅片
臭氧清洗技术结合去离子水的使用,在半导体级硅片的清洗过程中展现了高效的污染去除能力和优异的表面处理效果。这一过程不仅能去除硅片表面的有机物和金属离子,还能保持硅片表面的高纯度和光洁度,满足半导体制造中对硅片质量的严格要求。
ATLAS H30高浓度臭氧发生器(16%wt)
B20高浓度臭氧发生检测系统
机架式高浓度板式臭氧发生器
3S-A5半导体用臭氧发生器
高浓度紫外臭氧分析仪
臭氧水浓度检测仪(紫外法)
高浓度臭氧破坏器
北京某半导体企业臭氧用于ALD
江苏某企业臭氧用于晶片清洁
中科院某所用于氧化物生长研究
上海某半导体公司用于原子层沉积
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