江苏某半导体公司用于清洗硅片

臭氧清洗技术结合去离子水的使用，在半导体级硅片的清洗过程中展现了高效的污染去除能力和优异的表面处理效果。这一过程不仅能去除硅片表面的有机物和金属离子，还能保持硅片表面的高纯度和光洁度，满足半导体制造中对硅片质量的严格要求。