臭氧浓度稳定性测试
在原子层沉积(ALD)、半导体工艺中使用臭氧具有多方面的优势,这种工艺是一种精密薄膜沉积技术,广泛应用于半导体、光电子器件、纳米技术等领域。臭氧作为氧化剂,能够提供高质量的氧原子源,与金属有机前体分子反应,形成氧化物或氢氧化物薄膜。由于ALD工艺的每一步反应都是单层分子沉积,使用臭氧能够提供非常纯净且致密的薄膜沉积。因此臭氧的稳定性非常重要。
ATLAS H30高浓度臭氧发生器(16%wt)
B20高浓度臭氧发生检测系统
机架式高浓度板式臭氧发生器
3S-A5半导体用臭氧发生器
高浓度紫外臭氧分析仪
臭氧水浓度检测仪(紫外法)
高浓度臭氧破坏器
北京某半导体企业臭氧用于ALD
江苏某企业臭氧用于晶片清洁
中科院某所用于氧化物生长研究
上海某半导体公司用于原子层沉积
江苏某半导体公司用于清洗硅片
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