臭氧在光伏与半导体行业的作用

臭氧在多个工业领域中都有广泛的应用，主要得益于其强氧化性和还原能力。臭氧的典型应用包括原子层沉积（ALD）、化学气相沉积（CVD）、光致抗蚀剂带、表面清洗、污染物去除、表面处理和氧化物生长等。

光伏行业:

硅片电池片清洁、表面刻蚀、原子层沉积( ALD)。在光伏行业，臭氧被用于硅片电池片的清洁，去除表面的有机物质和其他污染物，确保电池片的高效运作。此外，臭氧还用于硅片的表面刻蚀，改善其光电性能。在原子层沉积（ALD）过程中，臭氧可以作为反应气体，帮助在硅片表面形成所需的薄膜材料。

半导体行业:

晶片清洁、表面处理、原子层沉积(ALD).化学气相沉积( CVD)、光刻胶去除。半导体行业中，臭氧同样扮演着重要角色。它用于晶片的清洁，去除制造过程中产生的杂质。在表面处理环节，臭氧能够去除表面残留的有机物，提高晶片的质量和性能。化学气相沉积（CVD）和光刻胶去除过程中也会用到臭氧，以确保沉积的材料纯净无杂质，并且光刻胶能够完全去除，不影响后续步骤。

LED及平板行业:

玻璃清洗，表面氧化，表面刻蚀，原子层沉积( ALD )。对于LED及平板显示器行业，臭氧则主要用于玻璃的清洗工作，去除表面的污渍和残留物。同时，臭氧也用于这些显示设备组件的表面氧化和刻蚀处理，以及在原子层沉积（ALD）过程中作为氧化剂使用，帮助在基板上生长均匀的氧化物薄膜。