不添加氮气的臭氧气体发生器

在半导体领域，常规的高浓度臭氧发生器通常需要添加氮气以提高臭氧浓度和稳定性。不论是MKS还是其他制造商，通常都会添加100-1000ppm的氮气。然而，日本TMEIC公司开发了一种不依赖氮气的臭氧气体发生系统，其技术具有以下特点：

1. 高浓度生成：该系统采用无氮气添加的技术，实现了超高浓度臭氧气体，浓度可达到400 g/m³（N）。

2. 优质臭氧气体：通过避免氮气的使用，该系统有效限制氮氧化物的生成，其浓度控制在0.01 ppm以下，相较于旧型号，降低了约1/10000。此举有助于提高图案精度和薄膜质量，同时减少金属污染物的产生。

3. 先进技术：继承了独特的超短间隙放电技术，具有卓越的启动特性、稳定性和冷却效率。

4. 标准认证：该系统符合相关标准，并获得了CE标志和SEMI-S2认证。

尽管如此，由于各种限制和技术原因，大多产商无法实现不加氮，大多数高浓度臭氧发生器仍需要添加氮气以确保更高的浓度和稳定性。