臭氧ALD工艺有哪些设备组成

臭氧ALD工艺有哪些设备组成

臭氧在ALD（原子层沉积）工艺中扮演着重要角色，主要用于形成CVD及ALD薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用。以下是臭氧ALD工艺中可能涉及的主要设备组成：

1. 臭氧发生器

臭氧发生器是生成高浓度臭氧的关键设备，用于提供ALD工艺所需的臭氧气体。根据不同的需求，可以选择不同型号的臭氧发生器，例如：

高浓度版：Atlas H30：能够产生高浓度、大流量、高压力的超洁净臭氧气体，适用于需要高浓度臭氧的应用场景。

基础版：3S-T10：适用于ALD实验，臭氧浓度可达120 mg/L，适合高校科研单位使用。

洁净版：Longevity M5：采用全数字NEOS™技术和高纯度石英玻璃电极，提供高洁净度的臭氧气体。

2. 臭氧气体检测仪

臭氧气体检测仪用于实时监测半导体行业、水处理和臭氧研究等过程中产生的气态臭氧浓度，确保工艺过程中的臭氧浓度在设定范围内，保证工艺的稳定性和安全性1。

3. 臭氧尾气分解器

由于臭氧是有毒气体，必须在工艺结束后将其分解为无害物质。臭氧尾气分解器能够有效分解高浓度臭氧，防止环境污染和人员伤害1。

4. 原子层沉积设备（ALD设备）

ALD设备是执行原子层沉积工艺的核心设备，它能够在微纳尺度上对薄膜进行表面改性，特别适合用于具有高深宽比的三维结构基材。例如，芬兰Beneq TFS200是一种离子增强原子层沉积设备，可用于在微结构表面沉积一层Al2O3薄膜，提升其机械性能2。

5. 其他辅助设备

除了上述主要设备外，ALD工艺还可能需要其他辅助设备，如机械泵、吸附罐、氨气气源柜、高纯氮气瓶等，这些设备共同协作，确保ALD工艺的顺利进行2。

综上所述，臭氧ALD工艺的设备组成主要包括臭氧发生器、臭氧气体检测仪、臭氧尾气分解器、原子层沉积设备（ALD设备）以及其他辅助设备。这些设备协同工作，确保ALD工艺的高效、安全和可控。